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TF1000-200-HV-T10真空管式炉产品用途:主要用于晶体退火、生物陶瓷、电子陶瓷、特种合金、磁性材料真空热处理;小批量硬质合金、CVD、PCD、PCBN金刚石等真空钎焊;镍钛记忆合金、3D打印金属件(钛合金TC4、23钛等)真空热处理、真空钎焊等。
主要特点:
1、炉膛采用氧化铝多晶纤维材料,保温性能好,耐用,节能。
2、加热元件采用红外加热管,经久耐用,温度可达900℃。
3、采用双层壳体结构,结合热感应技术,配有风冷系统,使炉体表面温度快速降温。
4、可选用KF快速法兰连接,减少了加热管损坏的可能,取放物料更加方便快捷。
5、上开式炉盖设计,可以实时观察加热的物料,并能迅速降温,满足骤冷骤热的使用需求。
6、智能PID高精度控制,自整定功能,30段可编程控制,可设置30段升降温程序,实现了功率无损耗。
7、预留气路快速接口,满足真空、气氛的使用需求。
8、具有开启断电,超温报警,漏电保护等安全操作功能。
产品技术参数:
工作温度:额定温度1000℃。
额定电压:AC380V 50/60Hz
控温精度:控温精度±1℃。
加热元件:红外加热管,温场均匀,能耗低。
真空度:1.33*10-3Pa(空炉冷态)。